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팹
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Fab / Semiconductor device fabrication
1. 개요[편집]
fabrication facility의 준말로 실리콘 웨이퍼 제조 시설을 뜻한다.
2. 상세[편집]
반도체 부품[1]을 생산하는 공장. 컴퓨터 및 스마트폰 등의 핵심 부품(CPU, GPU, RAM 등)을 만든다. 반도체 생산을 위한 팹은 먼지와 소음, 자기장 등으로부터 완벽하게 보호돼야 한다. 공정이 미세화되다 보니 필연적으로 무균 시설이다. 규소 덩어리를 판 형태로 자르고, 잘 연마한 다음 바이러스만큼 작은 회로[2]를 심는 작업을 거친 뒤 테스트하고 출고하는 과정을 거친다.
대체로 회사를 지칭하기보단 개별 공장 시설을 뜻한다. 반도체 회사는 제조 공장을 직접 건설하고 운영할 수도 있지만[3], 때로 제조는 다른 회사에 맡기고 칩 설계만 하기도 한다.[4] 현재는 ASML에서 분광기를 독점하는 형태라 반도체 공정을 늘리기 위해선 개별 시설을 늘릴 수 없어서 회사 전체를 매입하는 의미로도 사용되곤 한다.
근래의 대부분의 반도체 업계는 이 팹을 갖지 않고 반도체의 설계 및 개발만 한 뒤 팹을 가진 회사에 반도체를 위탁생산하는 팹리스(fabless) 회사로 운영되며, 팹을 가진 파운드리 업체에게 생산을 맡기는 게 보편적이다. 대만의 TSMC가 대표적인 파운드리 업체로 세계 1위 업체로 알려져 있다.
3. 반도체 제조 공정[편집]
4. 팹 목록[편집]
SK하이닉스 반도체 팹, 어디까지 가봤니?와 삼성전자 반도체 팹, 어디까지 가봤니?를 참고하였다. 생산량은 월간 웨이퍼 장수로 나타내는 것이 관례이며, 특별한 언급이 없으면 300 mm 웨이퍼 기준이다.
[1] 집적 회로 등[2] 흔히 n nm 공정이라 부르는 건 FET의 채널 길이가 n nm임을 뜻한다. TSMC의 경우 가장 작은 건 3nm 공정을 쓰는데, 이 정도 크기의 FET가 모여서 회로 하나를 구성하면 수백 nm 정도인 바이러스와 비슷한 크기가 될 것이다.[3] 인텔과 삼성전자가 대표적이다.[4] Apple, 퀄컴과 NVIDIA 등등 있다.[5] 여기 나오는 수치는 회로선폭, 또는 mosfet 채널 길이를 의미한다.[6] 삼성전자, 미국 오스틴 시스템LSI 라인 풀 가동 시작[7] 삼성전자, 세계 최대 규모 메모리 16라인 가동[8] 삼성전자 화성 반도체사업장 17라인 본격 가동[9] 삼성전자, 중국 시안(西安) 반도체 공장 본격 가동[10] 삼성전자, 세계 최대 규모 평택 반도체 라인 가동[11] 삼성전자, 세계 최대규모 평택 2라인 가동